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  《光谱学与光谱分析》(国际标准刊号:ISSN 1000-0593, CODEN码:GYGFED, 国内统一刊号:CN 11-2200/O4)是中国科学技术协会主管,中国光学学会主办,由钢铁研究总院、中国科学院物理研究所、北京大学、清华大学共同承办的专业性学术刊物,主要报道我国光谱学与光谱分析学科具有创新性的研究成果,反映国内外光谱 ...

石英衬底上GaN薄膜沉积及其光学性能的研究

作者: 张东 [1] 赵琰 [1] 宋世巍 [1] 李昱材 [1] 王健 [1] 毕孝国 [1] 高靖 [2] 王春生

关键词: GaN薄膜 石英衬底 ECR-PEMOCVD系统 光学性能

摘要:GaN薄膜材料广泛应用于发光二极管(L ED),激光二极管(LD)等光电器件.但是GaN基器件的制备与应用以及器件推广很大一部分取决于其器件的价格,常用的方式是在单晶蓝宝石衬底上沉积制备GaN薄膜样品,单晶蓝宝石衬底晶向择优,可以制备出高质量的GaN薄膜样品,但是单晶蓝宝石衬底价格昂贵,一定程度上限制了其GaN基器件推广使用.如何在廉价衬底上直接沉积高质量的GaN薄膜,满足器件的要求成为研究热点.石英玻璃价格廉价,但是属于非晶体,没有择优晶向取向,很难制备出高质量薄膜样品.本研究采用等离子体增强金属有机物化学气相沉积系统在非晶普通石英衬底上改变氮气反应源流量低温制备GaN薄膜材料.制备之后采用反射高能电子衍射谱、X射线衍射光谱、室温透射光谱和光致光谱对制备的薄膜进行系统的测试分析.其结果表明:在氮气流量适当的沉积参数条件下,所制备的薄膜具有高C轴的择优取向,良好的结晶质量以及优异的光学性能.


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